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 h Deutsch (de)[[Image:HolderTop1-10.jpg|thumb|400px|right|text-top|Die neutrale Ebene für die Erstellung von Entwürfen]]
Der nächste Schritt ist die Anwendung von Entwürfen auf alle Seiten. Dabei ist es wichtig, die Lage der neutralen Ebene zu berücksichtigen, d.h. der Ebene, um die die Fläche "gedreht" wird. Wenn wir als neutrale Ebene die Unterseite des Gehäuses wählen, dann haben wir ein Problem mit der Wandstärke im oberen Teil des Halters. Daher erstellen wir eine Bezugsebene mit einem Versatz von 40 mm von der XZ Ebene als Kompromiss zwischen der Oberseite des Halters, die zu dünn und der Unterseite, die zu breit wird.
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 h English (en)[[Image:HolderTop1-10.jpg|thumb|400px|right|text-top|The neutral plane for creating drafts]]
The next step is to apply drafts on all faces. Its important to consider the location of the neutral plane, that is, the plane which the face is "rotated" around. If we choose as neutral plane the bottom of the holder, then we will have a problem with the wall thickness in the top part of the holder. Therefore, we create a datum plane at an offset of 40mm from the XZ plane as a compromise between the top of the holder becoming to thin and the bottom becoming to wide.
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 h français (fr)[[Image: HolderTop1-10.jpg|thumb|400px|right|text-top | Le plan neutre pour la création de dépouille]] L'étape suivante consiste à appliquer des dépouilles sur toutes les faces . Il est important de bien choisir l'emplacement du plan neutre, c'est le plan autour duquel on tourne. Si nous choisissons comme plan neutre, le bas du support, alors nous aurons un problème avec l'épaisseur de paroi dans la partie supérieure du support. Par conséquent, nous créons un plan de référence avec un décalage de 40 mm par rapport au plan XZ comme un compromis entre le haut de la porte devant mince et le bas de devenant large . <br clear=all>
 h italiano (it)[[Image:HolderTop1-10.jpg|thumb|400px|right|text-top|Il piano neutro per creare gli sformi]]
Il passo successivo è quello di applicare gli sformi su tutte le facce. È importante considerare la posizione del piano neutro, cioè il piano intorno al quale la faccia è "ruotata". Se scegliamo come piano neutro il fondo del supporto avremo un problema con lo spessore della parete nella parte superiore del supporto. Quindi, creiamo un piano di riferimento con un offset di 40 mm dal piano XZ come compromesso tra la parte superiore del supporto che diventa più sottile e il fondo che diventa più spesso.
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 h polski (pl)[[Image:HolderTop1-10.jpg|thumb|400px|right|text-top|Płaszczyzna neutralna do tworzenia szkiców.]]
Następnym krokiem jest zastosowanie szkiców na wszystkich powierzchniach. Ważne jest, aby wziąć pod uwagę położenie płaszczyzny neutralnej, czyli płaszczyzny, wokół której powierzchnia jest "obracana". Jeśli wybierzemy jako płaszczyznę neutralną dolną część uchwytu, będziemy mieli problem z grubością ścianki w górnej części uchwytu. Dlatego tworzymy płaszczyznę odniesienia z przesunięciem 40 mm od płaszczyzny XZ jako kompromis między górną częścią uchwytu, która staje się zbyt cienka, a dolną częścią, która staje się zbyt szeroka.
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 h română (ro)[[Image:HolderTop1-10.jpg|thumb|400px|right|text-top|The neutral plane for creating drafts]]
The next step is to apply drafts on all faces. Its important to consider the location of the neutral plane, that is, the plane which the face is "rotated" around. If we choose as neutral plane the bottom of the holder, then we will have a problem with the wall thickness in the top part of the holder. Therefore, we create a datum plane at an offset of 40mm from the XZ plane as a compromise between the top of the holder becoming to thin and the bottom becoming to wide.
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